酸性蚀刻液再生循环系统（直接电解）

    本系统是采用脱电解技术，用离子膜将电解梢分成阳极区和阴极区两个独立的区域，阳极区为用后蚀刻液再生区，它使提铜后的蚀刻液中的一价铜离子，通过氧化反应生成二价铜离子，废蚀刻液从而获得再生，经调整后可以返回蚀刻机循环再使用；阴极区为铜回收区，由于离子隔膜对离子的特殊选择使溶液中的离子定向迁移，让溶液中的铜离子得以还原成金属。该设备是一套高新环保、全封闭式的系统，该系统与蚀刻机相互连接后，可以和蚀刻机自动连机运作，进行蚀刻液的再生及铜回收，从而达到节省资源、减少污染、增加企业效益的目的，并响应了国家“清洁生产，循环经济”的政策，其主要性能如下：

    （1）将甩后蚀刻液进行再生，经再生后的蚀刻液可以循环使用；

    （2）将用后蚀刻液中的铜进行回收，还原成高纯度（含铜量99%）以上的电解铜粉，铜回收率100%；

    （3）设备操作简单，自动化程度高，技术先进。

酸性蚀刻液铜回收物质循环再生系统（萃取—电积）

    本公司研发生产的酸性蚀刻液再生循环系统将原本需要排放的用后蚀刻液收集、添加少量的调整药剂将蚀刻液参数调整至设定范围，经调整后的用后蚀刻液利用溶剂萃取原理将铜离子转移及交换到酸性电解液中去，利用电解原理，将酸性电解液中的铜离子，电解出高纯度的金属铜板，而经系统处理过的用后蚀刻液再生还原成为可再次使用的再生蚀刻液，只需添加少量的补充剂及盐酸，补偿因运作时失去的部分，重新投入到蚀刻过程中，实现循环再用。现经业内客户使用后表明，与目前国内处普通使用的中和法、电解法、置换法相比，本公司所采用工艺处于先进水平。

碱性蚀刻液铜回收循环再生系统（萃取—电积）

    本公司研发生产的蚀刻液—萃取—电积（ET-SX-EW）再生闭路循环工艺，在处理失效蚀刻液时可随意调节，在被萃取液中能萃取一定量或全部的铜，萃取出来的铜，可以用电解法生产紫铜板或用生产硫酸铜。萃取后的余液中可循环再用物质基本无损失，再生后返回企业酸、碱蚀刻工序中循环使用。该系统专门为线路板的蚀刻工序而设计。

碱性蚀刻液铜回收循环再生系统（直接电解）

    在电子线路板（PCB）蚀刻过程中，蚀刻液中的铜含量渐渐增加蚀刻液要达到最佳的蚀刻交界，每公斤蚀刻液需含120至180克铜及相应分量的蚀刻盐（NH4CI）及氨水（NH3）要持续蚀刻液中上述各种成分的浓度最佳水平，蚀刻用过后的溶液需不断由添加I药剂所取缔。

    本系统主要采用直接电解法，可以在回收铜的同时回收蚀刻剂，将大量原本需要排放的蚀刻液再生还原成为可再次使用的蚀刻液。只需极少量的补充剂及氨水，补偿因运作时而失去的部分。从而取代蚀刻子液，该工艺不但可以减少蚀刻废液回收后的污水排放量，减少环境污染，同时还可以降低PCB厂家的生产成本。